In dem Maskenzentrum der Konzerne Infineon Technologies, Advanced Micro Devices (AMD) und DuPont Photomasks, sollen ab 2005 lithographische Masken für Strukturgrößen von 90 – 85 Nanometer sowie weiterführende Technologien entwickelt werden.
| Projektart: | Photomasken-Werk |
| Standort: | Deutschland (Dresden) |
| Investitionssumme: | 68 Mio. EUR |
| Geschossfläche: | 17.500 m² |
| Investor: | Joint Venture (Infineon Technologies AG, DuPont Photomaske, Inc. AMD Inc. |
| Zeitraum: | 01.01.2002- 30.11.2003 |
| Leistung: | Gesamt-Terminsteuerung |
Terminplanung, Terminkontrolle und Koordination des gesamten Projekts: Planung, Beschaffung, Ausführung, Inbetriebnahme und Abnahme.
