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AMH / VMH

In dem Maskenzentrum der Konzerne Infineon Technologies, Advanced Micro Devices (AMD) und DuPont Photomasks, sollen ab 2005 lithographische Masken für Strukturgrößen von 90 – 85 Nanometer sowie weiterführende Technologien entwickelt werden.

Daten
Unsere Leistung
Daten
Projektart: Photomasken-Werk
Standort: Deutschland (Dresden)
Investitionssumme: 68 Mio. EUR
Geschossfläche: 17.500 m²
Investor: Joint Venture (Infineon Technologies AG, DuPont Photomaske, Inc. AMD Inc.
Zeitraum: 01.01.2002- 30.11.2003
Leistung: Gesamt-Terminsteuerung
Unsere Leistung

Terminplanung, Terminkontrolle und Koordination des gesamten Projekts: Planung, Beschaffung, Ausführung, Inbetriebnahme und Abnahme.

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