In dem Maskenzentrum der Konzerne Infineon Technologies, Advanced Micro Devices (AMD) und DuPont Photomasks, sollen ab 2005 lithographische Masken für Strukturgrößen von 90 – 85 Nanometer sowie weiterführende Technologien entwickelt werden.
Daten
Projektart: | Photomasken-Werk |
Standort: | Deutschland (Dresden) |
Investitionssumme: | 68 Mio. EUR |
Geschossfläche: | 17.500 m² |
Investor: | Joint Venture (Infineon Technologies AG, DuPont Photomaske, Inc. AMD Inc. |
Zeitraum: | 01.01.2002- 30.11.2003 |
Leistung: | Gesamt-Terminsteuerung |
Unsere Leistung
Terminplanung, Terminkontrolle und Koordination des gesamten Projekts: Planung, Beschaffung, Ausführung, Inbetriebnahme und Abnahme.