In dem Maskenzentrum der Konzerne Infineon Technologies, Advanced Micro Devices (AMD) und DuPont Photomasks, sollen ab 2005 lithographische Masken für Strukturgrößen von 90 – 85 Nanometer sowie weiterführende Technologien entwickelt werden.
Daten
| Projektart: | Photomasken-Werk |
| Standort: | Deutschland (Dresden) |
| Investitionssumme: | 68 Mio. EUR |
| Geschossfläche: | 17.500 m² |
| Investor: | Joint Venture (Infineon Technologies AG, DuPont Photomaske, Inc. AMD Inc. |
| Zeitraum: | 01.01.2002- 30.11.2003 |
| Leistung: | Gesamt-Terminsteuerung |
Unsere Leistung
Terminplanung, Terminkontrolle und Koordination des gesamten Projekts: Planung, Beschaffung, Ausführung, Inbetriebnahme und Abnahme.
At the mask center of the concern, made up of the companies Infineon Technologies AG, Advanced Micro Devices (AMD) and DuPont Photomasks, should be developed from 2005 90 and 65 Nanometer lithographic masks as well as other further technologies.
Data
| Project type: | Photomask plant |
| Location: | Germany (Dresden) |
| Investment amount: | 68 million EUR |
| area: | 17,500 m² |
| Investor: | Joint Venture (Infineon Technologies AG, DuPont Photomaske, Inc. AMD Inc. |
| Time period: | 01.01.2002- 31.11.2003 |
| performance: | Global control, time scheduling |
Our performance
Time scheduling, time control and coordination of the complete project planning, aquisition, execution, activation and approval.
